The Extreme Physics Pushing Moore’s Law to the Next Level
Seeker · 11:52 · Watch on YouTube
[Content] EUV 리소그래피는 스쿨버스 크기의 180,000kg ASML 장비로, 주석 액적 플라즈마를 이용해 13.5nm 빛을 생성하며, 30년간의 물리학 및 공학 혁신의 결실로 칩 미세화를 지속하고 무어의 법칙을 이어갈 수 있게 했다.
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[Content] EUV 리소그래피는 스쿨버스 크기의 180,000kg ASML 장비로, 주석 액적 플라즈마를 이용해 13.5nm 빛을 생성하며, 30년간의 물리학 및 공학 혁신의 결실로 칩 미세화를 지속하고 무어의 법칙을 이어갈 수 있게 했다.